VERNA, ALESSIO FEDERICO

VERNA, ALESSIO FEDERICO  

QN Metrologia quantistica e nanotecnologie  

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Experimental characterization of RF-SQUIDs based Josephson Traveling Wave Parametric Amplifier exploiting Resonant Phase Matching scheme / Fasolo, L.; Oberto, L.; Verna, A.; Enrico, E.. - (2023). (Intervento presentato al convegno PhotonIcs and Electromagnetics Research Symposium tenutosi a Praga nel 3-6 Luglio 2023). 2023 L. FasoloL. ObertoA. VernaE. Enrico Abstact PIERS 2023.pdf
Patterned growth of CNT pillars for thermal applications / Jagdale, PRAVIN VITTHAL; Shahzad, MUHAMMAD IMRAN; Giorcelli, Mauro; Cocuzza, Matteo; Pugliese, Diego; Perrone, Denis; Mombello, DOMENICO BRUNO CLAUDIO; Tommasi, Alessio; Verna, Alessio; Tagliaferro, Alberto. - (2012), pp. CCM12-6-CCM12-6. (Intervento presentato al convegno National Conference on Carbon Material 2012 (CCM12) tenutosi a MUMBAI, Bhabha Atomic Research Centre nel November 1-3, 2012). 2012 COCUZZA, MATTEOPUGLIESE, DIEGOVERNA, ALESSIO + -
Study of W centers formation in silicon upon ion implantation and rapid thermal annealing / Andrini, G.; Zanelli, G.; Tchernij, S. Ditalia; Corte, E.; Hernandez, E. Nieto; Verna, A.; Cocuzza, M.; Bernardi, E.; Virzi', S.; Traina, P.; Degiovanni, I. P.; Olivero, P.; Genovese, M.; Forneris, J.. - (2023). [10.1109/sum57928.2023.10224442] 2023 Andrini, G.Zanelli, G.Corte, E.Verna, A.Cocuzza, M.Bernardi, E.Virzi', S.Traina, P.Degiovanni, I. P.Olivero, P.Genovese, M.Forneris, J. + Study_of_W_centers_formation_in_silicon_upon_ion_implantation_and_rapid_thermal_annealing.pdf