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Calibration of a silicon crystal for absolute nuclear spectroscopy / Massa, Enrico; Mana, Giovanni; Kuetgens, U; Ferroglio, L.. - In: JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY. - ISSN 0021-8898. - 43:(2010), pp. 293-296. 2010 MASSA, ENRICOMANA, GIOVANNI + -
Defocused travelling fringes in a scanning triple-Laue X-ray interferometry setup / Sasso, C P; Mana, G; Massa, E. - In: JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY. - ISSN 0021-8898. - 54:Pt 5(2021), pp. 1403-1408-1408. [10.1107/S1600576721007962] 2021 Sasso, C PMana, GMassa, E vh5143.pdf
Estimation of the centre of a diffraction peak by triggering the goniometer-angle readings via photon detection / Mana, Giovanni; Krempel, J; Ferroglio, L.. - In: JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY. - ISSN 0021-8898. - 43:(2010), pp. 83-88. 2010 MANA, GIOVANNI + -
Lattice strain effects in the measurement of the Si lattice parameter by Laue-case double-crystal diffractometry / Mana, Giovanni; Palmisano, C; Zosi, G.. - In: JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY. - ISSN 0021-8898. - 37:(2004), pp. 773-777. 2004 MANA, GIOVANNI + -
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