METRICA, l’archivio istituzionale della produzione scientifica dell’Istituto Nazionale di Ricerca Metrologica, ha lo scopo di raccogliere, documentare, conservare e pubblicare, anche ad accesso aperto, i prodotti della ricerca dell’Ente. METRICA utilizza la piattaforma IRIS (Institutional Research Information System) sviluppata da Cineca.

Localized photoresponse of YBCO films patterned by heavy-ion lithography / Mezzetti, E; Laviano, F; Gerbaldo, R; Ghigo, G; Gozzelino, L; Lopardo, Giuseppina; Minetti, B.; Rovelli, A.. - In: IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY. - ISSN 1051-8223. - 19:3(2009), pp. 753-756. [10.1109/TASC.2009.2018543]

Localized photoresponse of YBCO films patterned by heavy-ion lithography

LOPARDO, GIUSEPPINA;
2009
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11696/29008
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