Magnetic properties of silicon-iron laminations Si-enriched by a SiH4 based CVD process / S., A., H., I., F., K., J., D., Appino, C., Ferrara, E., F., F., L., R., I., S., M., B.. - In: JOURNAL DE PHYSIQUE IV. - ISSN 1155-4339. - 8:(1998), pp. 535-538.
Magnetic properties of silicon-iron laminations Si-enriched by a SiH4 based CVD process
APPINO, CARLO;FERRARA, ENZO;
1998
File in questo prodotto:
| File | Dimensione | Formato | |
|---|---|---|---|
|
1998 14 AudIdrKhoDegAppFerFioRocSubBar.pdf
non disponibili
Licenza:
Non Pubblico - Accesso privato/ristretto
Dimensione
314.67 kB
Formato
Adobe PDF
|
314.67 kB | Adobe PDF | Visualizza/Apri Richiedi una copia |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.


