Hydrogen-Bonding in Amorphous-Silicon with Use of the Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition Technique / AMATO G; G; DELLAMEA; G; FIZZOTTI; F; MANFREDOTTI; C; MARCHISIO; R; PACCAGNELLA; A. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - 43(1991), pp. 6627-6632.

Hydrogen-Bonding in Amorphous-Silicon with Use of the Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition Technique

AMATO, GIAMPIERO;
1991

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