Submicrometer functionalization of porous silicon by electron beam lithography / Rocchia, M; Borini, S; Rossi, A. M; Boarino, L; Amato, Giampiero. - In: ADVANCED MATERIALS. - ISSN 0935-9648. - 15:(2003), pp. 1465-1469. [10.1002/adma.200304919]

Submicrometer functionalization of porous silicon by electron beam lithography

ROSSI, A. M;BOARINO, L;AMATO, GIAMPIERO;
2003

File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11696/31732
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 17
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 18
social impact