Optimization of a-Si1-Xcxh Films Prepared by Ultrahigh-Vacuum Plasma-Enhanced Chemical-Vapor-Deposition for Electroluminescent Devices / Demichelis, F; Crovini, G; Pirri, C. F; Tresso, E; Amato, Giampiero; G, Coscia; U, Ambrosone; G, Rava. - In: THIN SOLID FILMS. - ISSN 0040-6090. - 241:(1994), pp. 274-277.
Optimization of a-Si1-Xcxh Films Prepared by Ultrahigh-Vacuum Plasma-Enhanced Chemical-Vapor-Deposition for Electroluminescent Devices
AMATO, GIAMPIERO;
1994
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