Patterning of SiO2 interfaces for radiative cooling applications / Ding, Z., Werlé, J., Li, X., Xu, H., Pan, L., Li, Y., Pattelli, L.. - In: EPJ WEB OF CONFERENCES. - ISSN 2100-014X. - 287:(2023). (EOS Annual Meeting (EOSAM 2023) - Topical Meeting 4 - Nanophotonics Dijon, France September 11-15, 2023) [10.1051/epjconf/202328704026].
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