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Citazione | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
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X-ray phase-contrast topography to measure the surface stress and bulk strain in a silicon crystal / Massa, E.; Sasso, C. P.; Fretto, M.; Martino, L.; Mana, G.. - In: JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY. - ISSN 1600-5767. - 53:5(2020), pp. 1195-1202. [10.1107/s1600576720009267] | 2020 | E. MassaC. P. SassoM. FrettoL. MartinoG. Mana | VH521_X_ray_phase_contrast_topography_to_measure_the_surface_stress.pdf |
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